12月19日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，晶圓代工企業(yè)中芯國(guó)際(SMIC)正在努力獲得關(guān)鍵的極紫外(EUV)光刻設(shè)備，以開發(fā)7nm以下制程技術(shù)。業(yè)內(nèi)觀察人士

12月19日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，晶圓代工企業(yè)中芯國(guó)際(SMIC)正在努力獲得關(guān)鍵的極紫外(EUV)光刻設(shè)備，以開發(fā)7nm以下制程技術(shù)。

業(yè)內(nèi)觀察人士表示，在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下，中芯國(guó)際正尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥(ASML)就EUV光刻設(shè)備進(jìn)行談判。

據(jù)報(bào)道，中芯國(guó)際計(jì)劃使用EUV光刻機(jī)，生產(chǎn)基于7nm以下制程技術(shù)的芯片產(chǎn)品。最近，有媒體報(bào)道，該公司已經(jīng)從20nm工藝過渡到3nm工藝，唯一缺的就是EUV光刻機(jī)。有了EUV光刻機(jī)，該公司就可以量產(chǎn)3nm芯片。

阿斯麥的總部位于荷蘭的費(fèi)爾德霍芬，生產(chǎn)基地和研發(fā)設(shè)施則位于康涅狄格州、加州、中國(guó)臺(tái)灣和荷蘭，科技發(fā)展中心及訓(xùn)練設(shè)施位于日本、韓國(guó)、荷蘭、中國(guó)臺(tái)灣和美國(guó)。

該公司服務(wù)的客戶為全球主要的半導(dǎo)體制造商，打造在電力電子、通信和信息技術(shù)產(chǎn)品中廣泛應(yīng)用的芯片。

目前，只有阿斯麥能造極紫外光刻機(jī)。據(jù)悉，三星電子、英特爾和臺(tái)積電等都采購(gòu)了該公司的極紫外光刻設(shè)備。今年4月份，調(diào)查公司Omdia表示，阿斯麥去年交付了26臺(tái)極紫外光刻機(jī)，其中約一半面向大客戶臺(tái)積電。

然而，報(bào)道稱，中芯國(guó)際一直難以從阿斯麥那獲得極紫外光刻設(shè)備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍有顧慮。

中芯國(guó)際及其控股子公司是集成電路晶圓代工企業(yè)之一，提供0.35微米到14納米不同技術(shù)節(jié)點(diǎn)的晶圓代工與技術(shù)服務(wù)。

昨日晚間，美國(guó)商務(wù)部發(fā)布公告稱，商務(wù)部工業(yè)和安全局(BIS)將中芯國(guó)際列入實(shí)體名單，以限制其獲取美國(guó)關(guān)鍵技術(shù)的能力。

美國(guó)商務(wù)部稱，中芯國(guó)際被列入實(shí)體名單后，美國(guó)出口商必須申請(qǐng)?jiān)S可證才能向該公司銷售產(chǎn)品。(小狐貍)

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